Mechanism of boron diffusion in amorphous silicon

Lunedì 14 aprile alle 11:30, nell’aula F del dipartimento di Fisica e Astronomia di Catania (via Santa Sofia, 64), la dottoressa Elena Bruno del Cnr – Infm Matis (Istituto nazionale per la Fisica della materia), terrà un seminario dal titolo Mechanism of boron diffusion in amorphous silicon.

(14 aprile 2008)